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一、設(shè)備概述
濕物料自加料器連續(xù)地加到干燥器上部第一層干燥盤上，帶有耙葉的耙臂作回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使耙葉連續(xù)地翻抄物料。物料沿指數(shù)螺旋線流過干燥盤表面，在小干燥盤上的物料被移送到外緣，并在外緣落到下方的達(dá)干燥盤外緣，在大干燥盤上的物料向里移動(dòng)并從中間落料口落入下一層小干燥盤中。大小干燥盤上下交替排列，物料得以連續(xù)地流過整個(gè)干燥器。
中空的干燥盤內(nèi)通入加熱介質(zhì)，加熱介質(zhì)形式有飽和蒸汽、熱水和導(dǎo)熱油。加熱介質(zhì)由干燥盤的一端進(jìn)入，從另一端導(dǎo)出。已干物料從最后一層干燥盤落到殼體的底層，最后被耙葉移送到出料口排出。水分從物料中逸出，由設(shè)在頂蓋上的排濕口排出。真空型盤式干燥機(jī)的濕氣由設(shè)在頂蓋上的真空泵抽出。從底層排出的物料可直接包裝。
二、設(shè)備特點(diǎn)
1. 調(diào)控容易，適用性強(qiáng)
2. 操作簡(jiǎn)單、容易
3. 熱效率高，能耗低
4. 操作環(huán)境好，可回收溶劑
5. 安裝方便，占地面積小
三、技術(shù)參數(shù)
|
型號(hào) |
1200 /4 |
1200 /6 |
1200 /8 |
1200 /10 |
1200 /12 |
1500 /6 |
1500 /8 |
1500 /10 |
1500 /12 |
1500 /14 |
1500 /16 |
2200 /6 |
2200 /8 |
2200 /10 |
2200 /12 |
2200 /14 |
2200 /16 |
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外徑 (mm) |
1865 |
2166 |
2900 |
||||||||||||||
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高度 (mm) |
2877 |
3297 |
3717 |
4137 |
4557 |
3327 |
3747 |
4167 |
4587 |
5007 |
5427 |
3781 |
4201 |
4621 |
5041 |
5461 |
5881 |
|
干燥面積 (m2) |
3.3 |
4.9 |
6.6 |
8.2 |
9.9 |
8.0 |
10.7 |
13.4 |
16.1 |
18.8 |
21.5 |
18.5 |
24.6 |
30.8 |
36.9 |
43.1 |
49.3 |
|
功率 (kW) |
1.1 |
1.5 |
2.2 |
3 |
4 |
5.5 |
|||||||||||
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型號(hào) |
2200 /18 |
2200 /20 |
2200 /22 |
2200 /24 |
2200 /26 |
2500 /10 |
2500 /12 |
2500 /14 |
2500 /16 |
2500 /18 |
2500 /20 |
2500 /22 |
2500 /24 |
2500 /26 |
3000 /10 |
3000 /12 |
3000/14 |
|
外徑 (mm) |
2820 |
3115 |
3768 |
||||||||||||||
|
高度 (mm) |
6301 |
6721 |
7141 |
7561 |
7981 |
4821 |
5241 |
5661 |
6081 |
6501 |
6921 |
7341 |
7761 |
8181 |
5643 |
6143 |
6643 |
|
干燥面積 (m2) |
55.4 |
61.6 |
67.7 |
73.9 |
80.0 |
43.8 |
52.5 |
61.3 |
70.0 |
78.8 |
87.5 |
96.3 |
105 |
113.8 |
60.0 |
72.0 |
84.0 |
|
功率 (kW) |
7.5 |
11 |
5.5 |
7.5 |
11 |
15 |
11 |
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經(jīng)過45天的緊張制作，我公司出口丹麥的兩臺(tái)WLDH-1.5型臥式螺帶混合機(jī)制作完成并發(fā)貨。該設(shè)備全容積1500L，由SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼制作…
近日，我公司出口美國(guó)的兩臺(tái)SZH-2500型雙錐混合機(jī)完成制作及發(fā)貨。該設(shè)備由美國(guó)某大型藥企訂購(gòu)，設(shè)備運(yùn)抵現(xiàn)場(chǎng)后將用于片劑車間的壓…
我公司FZH-2000型方錐混合機(jī)及料斗完成制作并發(fā)貨
近日，我公司LPG-150型中藥浸膏專用離心噴霧干燥機(jī)完成制作，并交付給客戶。 中藥浸膏是由植物根莖葉提取而成，特別是醇提工…
我公司出口土耳其振動(dòng)流化床干燥機(jī)發(fā)貨
薄膜包衣過程主要是：包衣溶液或混懸液的制備；霧滴的產(chǎn)生；霧滴從噴槍向基片床移動(dòng)；霧滴在片芯表面或顆粒表面上的撞擊、潤(rùn)濕、鋪…
